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    2. CRF plasma 等離子清洗機

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            現如今,普遍采用的清洗方法主要包括濕清洗和千法清洗。濕清洗有很大的限制性,從對環境的危害來看。充分考慮到材料的損耗和未來發展趨勢,干式清洗明顯優于濕式清洗。crf誠峰智造plasma清洗機具備迅速發展和明顯的優勢。等離子指的是由電子、離子、原子、分子或自由基等粒子組成的結合體。清洗階段中,高能電子撞擊反應氣體分子,使其離解或電離,利用多種粒子轟擊清洗表層或與清洗表層發生化學反應,有效的清除多種污染物質;它還能夠增強材料自身的表層性能指標,如增強表層的濕潤性能指標和膜的附著性,這在眾多應用中十分關鍵。crf誠峰智造plasma清洗機清洗后,設備表層干燥,不用再處理,可增強整個工藝流水線的處理效率;可使操作人員遠離有害溶劑的損壞;等離子可深入物體的微孔和凹陷,不用過多考慮清洗物體的形狀;也可處理多種材料,特別適用于不耐熱和不耐溶劑材料。這一些優勢引起了crf誠峰智造plasma清洗機清洗的普遍關注。

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           crf誠峰智造plasma清洗機分為化學清洗、物理清洗和物理化學清洗。對于不同的清潔對象,可選擇O2、H2和Ar等藝術氣體進行短時間表面處理。                  

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